Рассеяние носителей заряда в кристаллических твёрдых телах - процесс взаимодействия электрона
проводимости (дырки) с нарушениями идеальной периодичности кристалла, сопровождающийся
переходом электрона из состояния с импульсом p в состояние
с импульсом Рассеяние
наз. упругим, если энергии электрона в начальном и конечном состояниях равны,
или неупругим,
если
.
Источником упругого рассеяния являются статич.
дефекты - примесные атомы, дислокации, границы кристаллич. зёрен и т. п. (см.
Дефекты в кристаллах). Осн. источником неупругого рассеяния являются колебания
кристаллической решётки. Рассеяние электрона на колебаниях решётки описывается
в терминах испускания и поглощения фононов движущимся электроном. В нек-рых
случаях существенно неупругое рассеяние на др. квазичастицах - магнонах,
плазмонах. Особое положение занимает Р. н. з. друг на друге (см. Межэлектронное
рассеяние).
Рассеяние носителей заряда в кристаллических твёрдых телах является причиной того, что любое неравновесное
по энергии или импульсу распределение электронов, созданное внеш. возмущением
(электрич. поле, свет), с течением времени релаксирует к равновесному фермиевскому
распределению,
соответствующему температуре кристалла Т. В процессе релаксации упругое рассеяние "размешивает" распределение
равномерно в пределах каждой изоэнергетич. поверхности
= const, а неупругое - устанавливает равновесное
распределение
между изоэнергетич. поверхностями с разными
.
Время, необходимое для достижения равномерного распределения на изоэнергетич.
поверхности, наз. временем релаксации импульса
или
транспортным временем релаксации. Время, необходимое для установления равновесного
распределения в области энергий порядка
,
наз. временем релаксации энергии
.
Если,
рассеяние
наз. квазиупругим. В этом случае установление равновесия идёт в 2 этапа: сначала
быстро (за время
) неравновесное распределение выравнивается на каждой изоэнергетич. поверхности
и превращается в неравновесное распределение по энергиям, к-рое затем медленно
(за время
) релаксирует
к равновесному распределению
Возмущением, ответственным за Р. н. з., является
разность между истинным потенциалом V(r, t), действующим на электрон
в реальном кристалле, и периодич. потенциалом V0(r, t), действующим в идеальном кристалле с неподвижными атомами (r - пространственная
координата электрона). Возмущение dV = V - V0
определяет вероятность рассеяния.
В вырожденных полупроводниках и металлах следует учитывать принцип Паули, так что фактич. вероятность
перехода равна
.
Кроме того, при большой плотности носителей
рассеяние ослабляется экранированием возмущения из-за перераспределения носителей
в пространстве.
Вероятность рассеяния электрона при испускании или поглощении фонона о импульсом q
и энергией
(без учёта принципа Паули) определяется
выражением
Здесь верх. и ниж. знаки соответствуют испусканию
и поглощению фонона; числа фононов с импульсом q определяются
распределением Планка (см. Планка закон излучения:)
Матричный элемент М перехода p
: p' содержит закон сохранения квазиимпульса: (b - произвольный вектор обратной
решётки). Переходы, для к-рых b = 0, наз. нормальными; если
b.0, говорят о переходах с перебросом (см. Переброса
процессы). Дельта-функция d отражает закон сохранения энергии. Вероятность
рассеяния с испусканием фонона
пропорц. Nq + 1. Два слагаемых, соответствующие Nq и 1, дают вероятности индуцированного и спонтанного рассеяний. Вероятность
рассеяния с поглощением фонона
пропорц.
Nq, поэтому поглощение фонона всегда является индуцированным.
Рассеяние электрона на фононах в большой степени
определяется законами сохранения энергии и импульса (кинематич. факторы), а
также принципом Паули. Поэтому картина рассеяния различна для акустич. и оп-тич.
фононов, имеющих разные законы дисперсии
, и зависит от степени вырождения электронного газа. Кинематика позволяет установить,
какие фононы дают осн. вклад в рассеяние, какова степень упругости
рассеяния, а также является ли оно индуцированным или спонтанным.
Т. к. скорость электрона v имеет порядок скорости звука s только при очень малой его энергии (!
ms2 ! 0,1 К), то в реальных условиях
Это означает, что возмущение, создаваемое акустич. фононом, почти статично,
а рассеяние электронов всегда квазиупруго. Из кинематики следует, что осн. вклад
в рассеяние вносят фононы с импульсом
;
поэтому
направленный импульс электрона теряется всего
за неск. столкновений. Энергия фонона с таким импульсом !
,
так что для релаксации энергии требуется много столкновений, т. е. действительно
Является ли рассеяние индуцированным или спонтанным,
зависит от соотношения между энергией фонона hsp и тепловой энергией
Т. Эти величины сравниваются, когда энергия электрона равна
Если
то характерны
Nq
1;
доминирует спонтанное испускание фононов
(динамич. трение), и "движение" электрона по оси энергии
есть систематич. дрейф вниз. При
доминируют
индуциров. переходы, т. к.
При этом испускание происходит не намного
чаще, чем поглощение, и "движение" электрона по оси энергий превращается
в диффузию.
Вследствие закона сохранения импульса наиб.
вероятно взаимодействие с фононами, импульс к-рых,
где
- импульс
Ферми (см. Ферми-поверхность ).Но испусканию
таких фононов (с энергией
)
может препятствовать принцип Паули, если
превышение энергии электрона
над
энергией Ферми
много
меньше
, а
поглощение может ослабляться из-за малого числа таких фононов, если
.
Поэтому характер рассеяния сильно зависит от Г и превышения энергии электрона
над энергией Ферми. При
почти для всех электронов
(указанные ограничения несущественны) и рассеяние (с испусканием и поглощением)
идёт на фононах с
и
энергией
. Для релаксации импульса требуется неск. столкновений, а для релаксации энергии
- много (квазиупругое рассеяние). При
поглощение фононов с энергией
маловероятно,
но если
, то принцип Паули не запрещает испускание таких фононов (в осн. спонтанное).
Рассеяние, как и при высоких темп-pax, квазиупруго. Если же
,
то принцип Паули разрешает только испускание фононов с
.
Такое рассеяние является малоугловым, и выравнивание распределения электронов
на поверхности Ферми происходит диффузионно. Для полной релаксации импульса
требуется много столкновений, релаксация же энергии происходит за неск. столкновений
(неупругое рассеяние).
При рассеянии в металлах существенны оптич. фононы во всей зоне Бриллюэна,
в осн. коротковолновые
с , где
b0 - размер Бриллюэна зоны. В полупроводниках в рассеянии участвуют только оптич. ДВ-фононы с
. Частоту этих фононов w0 можно считать не зависящей от q. Рассеяние на оптич. фононах квазиупруго только при
!
400 К, т. е. только при очень высоких энергиях
электронов (см. Горячие электроны ).В области энергий
проявляются
неупругий и пороговый характеры рассеяния. Это существенно при низких темп-pax
, когда ниже
порога (
)
рассеяние слабое и возможно только за счёт маловероятного поглощения фонона,
пропорционального
,
а выше порога (
)
рассеяние сильное - оно происходит при спонтанном испускании фонона.
В выражение (1) входит матричный элемент М возмущения dV на блоховских функциях y (см. Блоховские электроны), обычно dV и y неизвестны, поэтому М можно найти только
численными расчётами. Однако если рассеяние происходит на ДВ-фононах, эту трудность
можно обойти. Для этого следует усреднить dV по объёму с размерами, большими
постоянной решётки а0 и меньшими длины волны фонона l
= 2p/q. В результате усреднения появляется электрич. макрополе
еf. Для dV, созданного акустич. фононом, f(r,
t) (r - координата точки, в окрестности к-рой произведено
усреднение) представляет собой электрич. поле, сопровождающее волну деформации
(пьезополе). В случае оптич. фонона f(r, t) - поле,
возникающее из-за относит. смещения разноимённо заряженных подрешё-ток (см.
Динамика кристаллической решетки). Рассеяние, обусловленное электрич.
макрополем, наз. поляризационным. Матричные элементы
для рассеяния, обусловленного макрополем, можно вычислять, представляя волновые
функции электрона в виде плоских волн.
Др. источником рассеяния является микрополе
выпавшее при усреднении. В области усреднения, где еf почти постоянно,
dV - почти периодич. функция r. В этой области электрон движется в
периодич. поле V0 +
и
его закон дисперсии
отличается от закона дисперсии
в идеальной решётке. В др. области усреднения
будут другие
и другие
.
Т. к. частоты фононов меньше электронных,
то закон дисперсии
"следит" за колебаниями решётки,
Т. о., в кристалле, в к-ром возбуждены ДВ-фононы, закон дисперсии медленно меняется
в пространстве и времени; он описывается функцией
,
характерные масштабы изменения к-рой такие же, как у f(r,
t). Двигаясь в среде с перем. законом дисперсии, электрон рассеивается
(как свет в мутной среде), даже если макрополе отсутствует. Такое рассеяние
наз. д е-формационным.
Матричные элементы
деформац. рассеяния тоже можно вычислять, заменяя блоховские функции на плоские
волны, если в качестве возмущения брать не
,
а т. н. деформац. потенциал w(r, t). В полупроводнике с невырожденной
зоной w(r, t)имеет смысл сдвига дна или потолка зоны в точке r в момент t, т. е. w(r, t) =
-
,
где р0 соответствует экстремуму зоны
(или центру долины; в многодолинном полупроводнике деформац. потенциал
различен для электронов разных долин). В металле w(r, t)- сдвиг
поверхности Ферми, так что w зависит дополнительно от положения
p на поверхности Ферми.
Матричные элементы в случае поляризационного
и деформационного
рассеяний, вычисленные через еf
и w, всегда сдвинуты по фазе на p/2. Это означает, что поляризац.
и деформац. рассеяния, обусловленные одной и той же фононной модой, не интерферируют.
Поэтому говорят о четырёх механизмах рассеяния: DA, DO, PA, PO, где первая
буква указывает на характер рассеяния (деформационный или поляризационный),
вторая - на ветвь фононов (акустическая или оптическая).
Для вычисления
и
необходимо
выразить еср и w через смещения атомов решётки. Связь f со
смещениями атомов находят из Пуассона уравнения
=
= 4pdivP, где P - дипольный момент
единицы объёма, возникший при однородной статич. деформации решётки из-за смещений
ядер и связанного с этим смещения электронов. Для деформации, созданной акустич.
фононами
''
где ukl - тензор деформации, а
выражаются
через пьезомодули. При деформации, созданной оптич. фононами
,
где | - вектор относит. смещения подрешёток, а gjk выражаются
через статич. и динамич. диэлектрич. проницаемости (см. ниже).
Число независимых констант b и g определяется
симметрией кристалла. Так, в кубич. кристаллах с центром инверсии =
0, так что поляризац. рассеяние невозможно.
В кубич. кристалле с двумя атомами в элементарной ячейке (большинство полупроводников)
возможно поляризац. рассеяние для акустич. и оптич. фононов.
Деформац. потенциал w(r, t)определяется
смещениями атомов в точке r в момент t. Для акустич. фононов w
= для
оптич. фононов - w = Здесь
- т. н. константы деформац. потенциала. Их число, кроме симметрии кристалла,
зависит ещё от положения р0 в полупроводниках или на поверхности
Ферми в металлах. В кубич. полупроводнике с р0 = 0 из симметрии
следует, что
и
= 0. Это
значит, что w =
,
где и = и11 + и22 + и33
- относит. изменение объёма при деформации. Т. к. для поперечных акустич. фононов
и = 0, то DA-рассеяние разрешено только для продольных фононов,
DО-рассеяние запрещено для обеих ветвей. Если р0
лежит не в центре зоны Бриллюэна, то возможны DA- и DО-рассеяния
на поперечных акустич. фононах.
Времена релаксации и
можно
найти, если вычислить, с какой скоростью электрон с импульсом p
теряет энергию и направленный импульс при рассеянии, переходя во все др.
состояния с импульсами р' (скорость релаксации). В изотропном случае
где величина
имеет порядок тепловой энергии Т, если электронный газ невырожден, и
равно ферми-энер-гии
,
если газ сильно вырожден (здесь и ниже k = 1). Для акустич. фононов в
полупроводниках при ин-дуциров. рассеянии
скорость релаксации
импульса пропорц. Т:
Здесь Т ивыражены
в долях энергии фонона; верх. знак относится к DA -рассеянию, нижний
- к РА - рассеянию;
.
- характерное время, определяемое соотношениями
где r - плотность кристалла, р0 - импульс электрона с энергией.
Типичные значения
1-10
пс. При
(спонтанное
рассеяние) скорость релаксации импульса, т. е.
,
от Т не зависит:
Здесь-
степень упругости рассеяния, m -
эфф. масса электрона.
Время релаксацииэнергиине
зависит от соотношения между
и
Для акустич. фононов в металлах и вырожденных
полупроводниках при высоких темп-pax ()
определяется ф-лой
Скорость релаксации энергии
Принизких
темп-pax
и
а для
При рассеянии на оптич. фононах в полупроводниках
в области квазиупругого рассеяния
Здесь верх. знак относится к DО-рассеянию,
нижний - к РО-рассеянию:
=
= (1/2)aw (типичные
значения =0,1-1
пс); здесь
- плотность приведённой массы разноимённо заряженных подрешёток,
-
фрёлиховская константа связи,
где
и
-
высокочастотная и статическая диэлектрические проницаемости решётки.
Время релаксации энергии
Рассеяние на примесных атомах. При рассеянии
на примесных атомах возмущение dV обусловлено элект-рич. полем (если
примесь заряжена) и деформацией решётки в окрестности примеси. Иногда нужно
учитывать обменные силы и магн. момент примеси. В случае заряж. примесей (примесных
ионов) в полупроводниках вклад в dV от деформации решётки несуществен.
Т. к. в полупроводнике pb0,
то изменение импульса электрона при упругом рассеянии мало, а это значит, что
рассеяние на больших расстояниях (r
а0)
определяется сглаженным потенциалом dV(r). Такой потенциал не зависит
от микроструктуры примеси и имеет кулоновский вид:
где Ze - заряд иона. Поэтому время релаксации
импульса
можно вычислить, пользуясь Резерфорда формулой для сечения рассеяния
заряж. частиц. Согласно этой ф-ле, дифференц. сечение рассеяния электрона под
углом
в телесном
угле dW:
где u - скорость электрона. Для вычисления
необходимо
усреднить s по всем
.
При интегрировании (12) по
получают
расходящийся интеграл, т. е. бесконечно большое сечение рассеяния. В действительности
сечение рассеяния на примесном ноне конечно, т. к. кулоновский характер поля
dV на больших расстояниях от примеси искажается полем др. примесных
ионов и экранирующим полем электронов. Если учитывать первый фактор и "обрезать"
кулоновский потенциал на 1/2 расстояния между примесными
центрами, равного N-1/3(N - концентрация примесей),
то это приводит к ф-ле
Здесь -
боровская энергия, F = In
Ф-ла (13) носит назв. Конуэлл - Вайскопфа
формулы.
Если учитывать также экранирование кулоновского
поля примесного иона свободными носителями заряда, то обрезание потенциала осуществляется
его умножением на ехр(-r/l), где l - длина экранирования. При
этом в ф-ле (13) F = ln(1- х) - х2/(1 + x2),
где x = 2p/l (Брукса - Херринга формула).
Рассеяние на нейтральных примесях в полупроводниках
обусловлено кулоновскими и обменными силами, действующими между рассеивающимся
электроном и атомом примеси. Используя аналогию с рассеянием на атоме водорода,
обычно пользуются т. н. ф-лой Эр-гинсоя:
где
- боровский радиус, С = 20.
В металлах возмущение dV сильно зависит
от сочетания атомов примеси и матрицы, поэтому к--л. общие ф-лы для
получить не удаётся. Обычно сечение рассеяния
однако оно сильно возрастает при резонансном рассеянии электронов на примесных
атомах с незаполненными d- и f-оболочками, когда на примеси существуют
виртуальные уровни энергии (см. Кондо эффект).
Сказанное выше относилось к рассеянию носителей внутри одной зоны (долины) с
энергетич. спектром носителей, вырожденным только по ориентации спина.
В более сложных ситуациях
(вырожденные зоны, многодолинные полупроводники) трудно определить теоретически,
какой механизм рассеяния доминирует в той пли иной области температур и энергий
носителей. Поэтому осн. источником сведений о механизме Р. н. з. является эксперимент.
Механизм рассеяния импульса обычно определяют по измерению подвижности носителей
заряда m = (е/т)тр и по ширине линии
циклотронного резонанса Dwc = 1/тp.
Входящее сюда тr усреднено по энергии. Для невырожденного
полупроводника усреднение сводится к замене на
Т. Поэтому, изучая температурные зависимости m или Dwc,
можно отличить рассеяние на примесях, когда m
T3/2, от рассеяния на акустич. фононах, когда m
T-1/2 для деформационного или m
T1/2 для поляризационного рассеяний.
Механизм релаксации энергии раскрывается в экспериментах с горячими электронами по зависимости m или Dwc от сильного электрич. поля или по спектрам горячей люминесценции.
И. Б. Левинсон
|
![]() |