Плазменная технология - совокупность методов получения и обработки материалов с использованием нагрева исходных
продуктов в плазменной струе или их перевода в плазменное состояние.
Наиб. широкое распространение получили
атмосферные (при норм. давлении) плазменные методы обработки и получения
материалов (резание, наплавка, выращивание монокристаллов, сфероидизация
порошков, нанесение покрытий), а также проведения многотоннажных плазмохим.
процессов (получение связанного азота и др.). Эти процессы осуществляются
с помощью потоков плазмы, генерируемых плазм отроками разл. типов
(электродными, высокочастотными). Плазма в этих устройствах выполняет функцию
высокотемпературного теплоносителя и используется в осн. для нагрева исходных
продуктов.
В 1980-х гг. получили эфф. развитие ионно-плазменные
технол. процессы, реализующиеся в вакууме с помощью
плазменных ускорителей. В качестве рабочих тел могут быть использованы металлы, газы, твёрдые
и жидкие диэлектрики. В этих условиях возможны такие процессы, как насыщение
поверхностных слоев материала др. веществом с обеспечением необходимой
толщины насыщенного слоя или глубины его залегания, высокоэффективное распыление
поверхности, конденсация вещества в вакууме из плазменной фазы при обеспечении
органич. связи материалов основы и покрытия и необходимых структурных особенностей
плазменного конденсата.
Реализация разл. ионно-плазменных технол.
процессов, осуществляемых в условиях высокой чистоты, принципиально необходимой
для получения мн. спец. материалов, определяется широкими возможностями
управления параметрами взаимодействующих плазменных потоков. Это позволяет
получать разл. структуры плазменных конденсатов - от аморфных до кристаллических,
с разными размерами и формой кристаллитов.
П. т. включает ряд чрезвычайно важных,
экономически высокорентабельных процессов нанесения износостойких, жаропрочных,
коррозионно-стойких и др. плазменных покрытий. Благодаря этому возможна
замена дорогостоящих и редких металлов и сплавов менее дефицитными материалами
с нанесёнными на них покрытиями без изменения (или даже со значит. повышением)
ресурса работоспособности изделий. Использование П. т. приводит к формированию
принципиально новых композиц. материалов, свойства к-рых не определяются
простым суммированием характеристик основы и покрытия, а являются качественно
новыми.
При формировании покрытий широко используется
перевод исходных продуктов в плазменное состояние с помощью вакуумной дуги.
Катодные микропятна дугового разряда являются источниками высокоскоростных
потоков плазмы, содержащей продукты эрозии катода. Степень ионизации образующегося
плазменного потока достаточно велика (от 20 до 90% в зависимости от материала
катода.); наиб. долю в нём составляют двухзарядные ионы. Ионные токи дугового
разряда аномально высокие - до 10 ампер и более (ок. 10% тока разряда).
Управление потоками плазмы вакуумной дуги
(транспортировка, фокусировка, сепарация от нейтральных частиц и макрочастиц
катодного материала) осуществляется путём использования дополнит. устройств,
действующих на принципах плазмооптики (см. Плазмооптические системы).
При конденсации потоков плазмы тяжёлых
металлов (титан, молибден, цирконий и т. п.) в присутствии реактивного
газа (азота) синтезируются нитриды этих металлов, к-рые обладают высокими
показателями по твёрдости, износостойкости и адгезии к металлич. основе.
Осн. параметрами, определяющими свойства образующегося конденсата, являются
хим. состав исходного материала (катода), парциальное давление реактивного
газа, темп-pa подложки при конденсации, энергия ионов, плотность плазменного
потока. При повышении давления азота до оптим. значений увеличивается микротвёрдость
формируемых покрытий, что обусловлено образованием твёрдых растворов азота
и нитридов с достаточно широкой областью гомогенности. Зависимость свойств
образующихся конденсатов от давления реактивного газа позволяет формировать
покрытия с заданным градиентом свойств по толщине, а также создавать многослойные
покрытия чередованием высокотвёрдых и "мягких" (исходный материал) слоев.
Возбуждённое состояние компонентов плазмы обеспечивает протекание плазмохим.
реакций образования нптридов тугоплавких металлов (карбидов при использовании
углеродсодержащих газов) при сравнительно низких темп-pax подложки, что
позволяет наносить эти покрытия на материалы с низкой температурой отпуска;
традиц. методы получения нитридов и карбидов требуют длит. времени и высоких
температур (см. также Плазмохимия).
При конденсации потоков углеродной плазмы
в вакууме на поверхности охлаждаемых металлпч. подложек получены алмазоподобные
покрытия. Ионно-плазменный метод синтеза позволяет получать такие покрытия
толщиной до неск. десятков микрон. Физ. свойства алмазоподобных углеродных
покрытий близки по свойствам к алмазу. Микротвёрдость плёнок по Виккерсу
достигает (1518)
х 103 кГс/мм2, плотность - 2,93,2
г/см3, электросопротивление - 108 Ом х см. Плёнки
химически инертны к сильным окислителям, как и алмаз. Синтез в предельно
неравновесных условиях композиц. высокодефектного углеродного материала,
состоящего из смеси высокодисперсных алмазных кристаллитов, упрочнённых
второй фазой выделений высокодисперсного графита, позволяет надеяться на
получение новых конструкц. материалов с ещё лучшими свойствами, чем свойства
известных форм алмазов.
Синтезированные методами П. т. высокотвёрдые,
прочные, стабильные покрытия успешно используются в качестве упрочняющих
покрытий для режущих инструментов (быстрорежущие стали и твёрдые сплавы)
и деталей машин. Это позволяет существенно (в 2 - 8 раз) повысить эксплуатац.
ресурс упрочняемых изделий.
В. Г. Падилка