Фоторезисты - материалы органич. и неорганич. происхождения, чувствительные к оптич. излучению видимого
или УФ-диапазона; применяются в фотолитографии для получения рельефного
покрытия заданной топологии. Формирование в слое Ф., нанесённого на к--л. подложку,
рельефных областей заданной конфигурации происходит в результате его локального
экспонирования и последующего проявления. При локальном экспонировании в Ф.
идут физ--хим. превращения с изменением размера, структуры или полярности молекул,
ведущие к изменению свойств покрытий и возможности удаления при проявлении облучённых
или необлучённых участков. Если в результате экспонирования хорошо растворимыми
становятся облучённые участки и они удаляются в процессе проявления, то Ф. наз.
позитивным; если в процессе проявления удаляются необлучённые участки,
Ф. наз. негативным. Полученное таким способом рельефное покрытие служит
защитой нижележащего рабочего слоя от воздействия травлений.
Ф. используют в виде жидких
композиций, к-рые наносят на рабочий слой с помощью центрифуг, валков или пульверизаторов
и формируют плёнки толщиной от десятых долей до десятков микрон. Большей разрешающей
способностью обладают т. н. вакуумные позитивные и негативные Ф., к-рые представляют
собой слои мин. толщины, полученные методом вакуумного напыления. Кроме того,
применяются т.н. сухие плёночные Ф.- пластичные светочувствит. слои толщиной
10-100 мкм, заключённые между лавсановой плёнкой - основой - и защитной полиэтиленовой
плёнкой. Слои наносятся на подложку накаткой.
В качестве жидких позитивных
Ф. используют составы на основе светочувствит. производных о-диазокетонов
и плёнкообразующих фенольных и др. смол. Из числа негативных жидких Ф.- на основе
сенсибилизированного поливинилциннамата, поливинилового спирта и полиизо-преновых
циклокаучуков со светочувствит. диазидами. Вакуумные Ф. представляют собой слои
красителей, цин-наматов, халькогенидных стёкол и др. В сухих плёночных Ф. в
качестве светочувствит. слоя применяют сенсибилизированные фотополимеризующиеся
композиции с акрилат-ными мономерами и олигомерами, к-рые резко изменяют свою
растворимость под действием УФ- и видимого света вследствие образования пространственно
сшитой полимерной структуры.
Ф. чувствительны к излучению
в широком спектральном диапазоне УФ- и видимого излучений, но особенно широко
используется УФ-излучение ртутных ламп и эксимерных лазеров, что наиб. приемлемо
в пром. условиях производства интегральных схем для микроэлектроники.
В зависимости от типа Ф. их светочувствительность находится в пределах 2-20
см2/Дж, а разрешающая способность - 100-1000 мм-1. Микродефектность
(число невытравленных точек на проявленных участках после проявления) для лучших
Ф. достигает 0,05 см-2.
Жидкие и вакуумные Ф. используют
в осн. в микроэлектронике для создания интегральных схем. Кроме того, жидкие
Ф. применяют в фототехнологии изготовления элементов голограммной, а также элементов
и схем интегральной оптики. Сухие плёночные Ф. используют для изготовления печатных
плат.
Литература по
Боков Ю. С., Фото-, электронно- и рентгенорезисты, М., 1982; Светочувствительные полимерные
материалы, под ред. А. В. Ельцова, Л., 1985; "Журнал научной и прикладной
фотографии и кинематографии", 1991, т. 36, № 3. В. А. Барачевский.
Знаете ли Вы, что cогласно релятивистской мифологии "гравитационное линзирование - это физическое явление, связанное с отклонением лучей света в поле тяжести. Гравитационные линзы обясняют образование кратных изображений одного и того же астрономического объекта (квазаров, галактик), когда на луч зрения от источника к наблюдателю попадает другая галактика или скопление галактик (собственно линза). В некоторых изображениях происходит усиление яркости оригинального источника." (Релятивисты приводят примеры искажения изображений галактик в качестве подтверждения ОТО - воздействия гравитации на свет) При этом они забывают, что поле действия эффекта ОТО - это малые углы вблизи поверхности звезд, где на самом деле этот эффект не наблюдается (затменные двойные). Разница в шкалах явлений реального искажения изображений галактик и мифического отклонения вблизи звезд - 1011 раз. Приведу аналогию. Можно говорить о воздействии поверхностного натяжения на форму капель, но нельзя серьезно говорить о силе поверхностного натяжения, как о причине океанских приливов. Эфирная физика находит ответ на наблюдаемое явление искажения изображений галактик. Это результат нагрева эфира вблизи галактик, изменения его плотности и, следовательно, изменения скорости света на галактических расстояниях вследствие преломления света в эфире различной плотности. Подтверждением термической природы искажения изображений галактик является прямая связь этого искажения с радиоизлучением пространства, то есть эфира в этом месте, смещение спектра CMB (космическое микроволновое излучение) в данном направлении в высокочастотную область. Подробнее читайте в FAQ по эфирной физике.
