Фоторезистор - полупроводниковый резистор, изменяющий своё электрич. сопротивление под действием внеш. эл--магн.
излучения. Ф. относятся к фотоэлектрич. приёмникам излучения, их принцип действия
основан на внутр. фотоэффекте в полупроводниках (см. Фотопроводимость ).Основу
Ф. составляет слой (или плёнка) полупроводникового материала на подложке (или
без неё) с нанесёнными на него электродами, посредством к-рых Ф. подключается
к электрич. цепи. Фоторезистивный слой получается, напр., прессованием порошка
или распылением водно-спиртовой суспензии полупроводникового материала непосредственно
на поверхности подложки, хим. осаждением, эпитаксией, напылением. Полученные
т.о. слои (плёнки) могут подвергаться отжигу. В зависимости от назначения Ф.
могут быть одно- и многоэлементные (мозаичные), с охлаждением и без, открытые
и герметизированные, выполненные в виде отд. изделия или в составе интегральных
схем. Для расширения функцией, возможностей Ф. дополняют фильтрами, линзами,
растрами (оптич. модуляторами), предварит. усилителями (в микроминиатюрном исполнении),
термостатами, подсветкой, системами охлаждения и др. (рис. 1).
Ф. обладают избирательностью
к внеш. излучению: так, Ф. на основе CdS и CdSe чувствительны к видимому, УФ-,
рентг. и g-излучениям, а также к ближнему ИК-излучению; Ф. на основе PbS, PbSe,
InSb, CdHgTe и PbSnSe -к ИК-излучению с длиной волны до 14 мкм (рис. 2), а на
основе легированных Si и Ge - до 40 мкм. Высокая чувствительность, стабильность
фотоэлектрич. характеристик во времени, малая инерционность, простота устройства,
допускающая разнообразное конструктивно-технол. исполнение, способность работать
в широком диапазоне механич. и климатич. воздействий обусловили широкое использование
Ф. в приборах и устройствах оптоэлектроники .(См. также Полупроводниковые
материалы. Полупроводниковые приборы.)
Литература по
Олеск А. О., Фоторезисторы, М.- Л., 1966;
Пасынков В. В., Чиркин Л. К., Шинков А. Д., Полупроводниковые приборы, 4 изд., М., 1987.
Знаете ли Вы, что cогласно релятивистской мифологии "гравитационное линзирование - это физическое явление, связанное с отклонением лучей света в поле тяжести. Гравитационные линзы обясняют образование кратных изображений одного и того же астрономического объекта (квазаров, галактик), когда на луч зрения от источника к наблюдателю попадает другая галактика или скопление галактик (собственно линза). В некоторых изображениях происходит усиление яркости оригинального источника." (Релятивисты приводят примеры искажения изображений галактик в качестве подтверждения ОТО - воздействия гравитации на свет) При этом они забывают, что поле действия эффекта ОТО - это малые углы вблизи поверхности звезд, где на самом деле этот эффект не наблюдается (затменные двойные). Разница в шкалах явлений реального искажения изображений галактик и мифического отклонения вблизи звезд - 1011 раз. Приведу аналогию. Можно говорить о воздействии поверхностного натяжения на форму капель, но нельзя серьезно говорить о силе поверхностного натяжения, как о причине океанских приливов. Эфирная физика находит ответ на наблюдаемое явление искажения изображений галактик. Это результат нагрева эфира вблизи галактик, изменения его плотности и, следовательно, изменения скорости света на галактических расстояниях вследствие преломления света в эфире различной плотности. Подтверждением термической природы искажения изображений галактик является прямая связь этого искажения с радиоизлучением пространства, то есть эфира в этом месте, смещение спектра CMB (космическое микроволновое излучение) в данном направлении в высокочастотную область. Подробнее читайте в FAQ по эфирной физике.